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Intel、新工場建設に50億ドル超を投資=14nmの半導体を生産

Intelは、50億ドル以上を投じて、アリゾナ州に次世代型の半導体工場を建設する計画を発表した。同社はプレスリリースで、このプロジェクトにより、数千人規模の雇用を生み出すと述べている。

 

新工場「Fab 42」は、2013年に稼働を開始する予定であり、300mmウェハに対応し、14nm(ナノメートル)プロセス技術に基づく次世代半導体製品が生産される。
Intelは現在、新製品として、32nmプロセス技術採用のマイクロプロセッサを中心に製造しているが、年内にも22nmのチップの量産を開始する予定であり、12nmはさらにその次の世代ということになる。

 

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